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前瞻性研发
新型蚀刻气体CxHyFz
英文名称:new etching gas CxHyFz
业务咨询
销售电话:0570-3687736 / 0570-3091321
邮箱:
sales@grandit.com.cn
详细介绍
主要应用:高深宽比、高选择性蚀刻
新型蚀刻气体 CxHyFz(碳氢氟化合物)是半导体先进制程中替代传统全氟化合物的关键材料,尤其在3D NAND、FinFET和GAA等纳米级器件制造中表现出更高的选择比、更低的损伤和更好的环保特性。
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Mo蚀刻后清洗液
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La、稀有金属等金属前驱体
中巨芯(688549)今日成功登陆上交所科创板!
时间:2023-09-08