中巨芯科技股份有限公司--蚀刻后清洗液

英文名称：PERR(GCCU/GCAL/GCTW/GCCO series)
纯度等级：Semi G4
包装规格：500ml瓶、4L瓶、200L桶

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主要应用：半导体晶圆制造的蚀刻工艺后清洗

蚀刻后清洗液用于去除蚀刻工艺中残留的反应副产物、颗粒污染物、金属离子等，确保期间性能和可靠性，具有高清洁度、低损伤和材料兼容性等特点。本产品具有超高纯度、低颗粒物、浓度可控精度高等优点，可满足客户的配方和高品质的要求。

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