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高纯氯气(Cl2)
英文名称:Chlorine
纯度等级:5.5N
包装规格:10L钢瓶、47L钢瓶、440L(Y钢瓶)、930L(T钢瓶)
主要应用:半导体显示制造的蚀刻工艺
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高纯氯化氢 (HCl)
英文名称:Hydrogen Chloride
纯度等级:5.5N
包装规格:47L钢瓶、440L(Y钢瓶)、880L(SY钢瓶)、管束车
主要应用:半导体显示制造的蚀刻工艺
产品详情
高纯六氟乙烷(C2F6)
英文名称:Hexafluoroethane
纯度等级:5N
包装规格:47L钢瓶、440L(Y钢瓶)、880L(SY钢瓶)、管束车
主要应用:
半导体显示制造的蚀刻工艺
产品详情
高纯硅烷(SiH4)
英文名称:Silicane
纯度等级:5N
包装规格:47L钢瓶、440L(Y钢瓶)、管束车
主要应用:
半导体显示制造的成膜工艺
产品详情
电子级硝酸(HNO3)
英文名称:Nitric Acid
纯度等级:Semi G4
包装规格:500ml瓶、4L瓶、200L桶、ISO罐式集装箱
主要应用:半导体显示制造的清洗刻工艺
产品详情
电子级盐酸(HCl)
英文名称:Hydrochloric Acid
纯度等级:Semi G4
包装规格:500ml瓶、4L瓶、200L桶、ISO罐式集装箱
主要应用:
半导体显示制造的清洗、蚀刻工艺
产品详情
电子级氢氟酸(HF)
英文名称:Hydrofluoric Acid
纯度等级:Semi G3
包装规格:500ml瓶、4L瓶、200L桶、ISO罐式集装箱
主要应用:半导体显示制造的清洗、蚀刻工艺
产品详情
高纯正硅酸乙酯(TEOS)
英文名称:tetraethyl orthosilicate
纯度等级:9N
包装规格:5gal钢瓶、200L钢瓶
主要应用:半导体显示制造的成膜工艺
产品详情
BOE 缓冲蚀刻液
英文名称:Buffered Oxide Etchant(GEOX series)
纯度等级:Semi G3
包装规格:500ml瓶、4L瓶、200L桶、ISO罐式集装箱
主要应用:半导体显示制造的蚀刻工艺
产品详情
Poly-Si 蚀刻液
英文名称:poly-Si Etchant(GESI series)
纯度等级:Semi G3
包装规格:500ml瓶、4L瓶、200L桶、ISO罐式集装箱
主要应用:半导体显示制造的蚀刻工艺
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中巨芯(688549)今日成功登陆上交所科创板!
时间:2023-09-08