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半导体晶圆制造

高纯氯气(Cl2)

高纯氯气(Cl2)

英文名称:Chlorine
纯度等级:6N
包装规格:10L钢瓶、47L钢瓶、440L(Y钢瓶)、930L(T钢瓶)
业务咨询
详细介绍
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
高纯氯气是半导体工艺中的关键气体,具有强氧化性和高反应活性,主要用于硅及多晶硅蚀刻、金属蚀刻、化合物半导体蚀刻等干法蚀刻,硅外延生长和氮化硅沉积等薄膜沉积、以及CVD或蚀刻轻体内的硅/金属沉积物的腔体清洗等工艺。本产品具有超高纯度等优点,可满足客户的多种包装和钢瓶接头的要求。

 

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