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半导体晶圆制造
高纯氯气(Cl2)
英文名称:Chlorine
纯度等级:6N
包装规格:10L钢瓶、47L钢瓶、440L(Y钢瓶)、930L(T钢瓶)
业务咨询
销售电话:0570-3687736 / 0570-3091321
邮箱:
sales@grandit.com.cn
详细介绍
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
高纯氯气是半导体工艺中的关键气体,具有强氧化性和高反应活性,主要用于硅及多晶硅蚀刻、金属蚀刻、化合物半导体蚀刻等干法蚀刻,硅外延生长和氮化硅沉积等薄膜沉积、以及CVD或蚀刻轻体内的硅/金属沉积物的腔体清洗等工艺。本产品具有超高纯度等优点,可满足客户的多种包装和钢瓶接头的要求。
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化学机械抛光后清洗液
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高纯氯化氢 (HCl)
中巨芯(688549)今日成功登陆上交所科创板!
时间:2023-09-08