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半导体晶圆制造

高纯一氟甲烷(CH3F)

英文名称:Fluoromethane
纯度等级:5N
包装规格:47L钢瓶
业务咨询
详细介绍
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
高纯一氟甲烷作为新一代含氟电子气体,在半导体制造中因其特殊的物理化学特性,在高选择性介质蚀刻、逻辑芯片自对准接触孔、原子层精度蚀刻、先进封装(硅通孔绝缘层蚀刻和RDL再布线层)起到关键作用,逐步替代传统的高GWP气体。本产品具有超高纯度等优点,可满足客户的多种包装和钢瓶接头的要求。

 

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