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半导体晶圆制造

氟氮混合气 (F2/N2)

英文名称:Fluorine/Nitrogen mixtures
纯度等级:F2:3N
包装规格:47L钢瓶、50L钢瓶
业务咨询
详细介绍
主要应用:半导体晶圆制造的蚀刻工艺
氟氮混合气在半导体制造中主要用于干法蚀刻和腔体清洗等工艺,具有高选择性和低污染等优势。本产品具有超高纯度等优点,可满足客户的多种包装和钢瓶接头的要求。

 

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