半导体晶圆制造的蚀刻工艺
高纯氯化氢在半导体工业中用于硅晶圆的表面清洗、高温气相蚀刻和第三代化合物半导体的蚀刻、化学气相沉积中的掺杂与蚀刻、CVD或蚀刻反应腔内的硅基沉积物的设备清洗和光刻胶残留的剥离等工艺中起到关键作用。本产品具有超高纯度等优点，可满足客户的多种包装和钢瓶接头的要求。
